EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 노광은 파장 13.5nm의 극자외선을 이용해 웨이퍼 위에 회로 패턴을 그리는 공정입니다. 빛의 파장이 짧을수록 더 미세한 회로를 그릴 수 있어, 7nm 이하 최첨단 공정(5nm·3nm·2nm)에는 EUV 노광장비가 필수입니다. 네덜란드 ASML이 EUV 노광장비를 전 세계에서 사실상 독점 공급하기 때문에, ASML의 장비 생산·납품 일정이 삼성전자·TSMC·인텔의 최첨단 공정 전환 속도를 좌우하는 핵심 변수입니다.